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半导体用高纯度双氧水

HIGH PURITY HYDROGEN PEROXIDE FOR SEMICONDUCTOR

长春为台湾最大双氧水制造商，作为半导体厂清洗晶圆的重要化学品，且为台湾市佔率最高之制造商。

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半导体晶圆清洗

多用在SPM制程及APM制程，双氧水分别为硫酸或氨水搭配使用。

半导体用高纯度双氧水

依客户制程洁净度需求生产，请洽业务人员。

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